Minggu, 05 April 2015
MATERIAL DAN TEKNIK FABRIKASI PANDU GEOMBANG OPTIC 1. Teknik Dan Pabrikasi Dan Material
Diposting oleh Fitria Adi Mustika di 18.12
A.
Seleksi Dan Teknik Pabrikasi
Beberapa teknik pabrikasi
dan jenis material dari pembatasan pandu gelombang dinyatakan dalam table
berikut ini :
Table 5.1 material pandu gelombang
teknik
|
Material
pandu gelombang
|
polimer
|
glass
|
Chalcogenide
|
LiNbO3
LiTaO3
|
ZnO
|
Nb2O5
TA2O5
|
Si3N4
|
|
Pengendapan
-spin-coating
-vacum-evaporation
-CVD
Thermal
Diffusionon
Exchange
On
Implantation
Epitaxial
growth
|
|
|
|
|
|
|
|
Teknik yang terpenting
adalah teknik deposisi yang mendeposisikan material yang memiliki indeks bias
tinggi (biasanya disebut lapisan film) di atas substrat. Pertukaran ion, difusi
termal, teknik transpalantasi dimana membuat lapisan berindeks bias lebih
tinggi dengan cara memasukkan ion ke lapisan substrat. Dan teknik epitaxial
dimana lapisan Kristal ditumbuhkan bergantung komponen aktif/pasif. Beberapa
urutan teknik yaitu memilih bahan kemudian cara atau teknik pembuatan pandu gelombang sesuai dengan
karakteristik yang dipilih. Beberapa pertimbangan yang terpenting dalam
pemilihan yaitu
1.
Ketebalan pandu gelombang, kenaikan indeks
bias dan distribusinya
2.
Kehilangan daya yang kecil (kurang dari 1
dB/cm)transparent optic, kerataan permukaan, pembauran gelombang yang kecil
3.
Derajat kemurnian, dan setting dari sumbu
optic dari Kristal material
4.
Stabilitas dan adhesivitas substrat
5.
Reproduksibilitas dari fabrikasi.
B.
Beberapa Tekhnik Fabrikasi
Polarisasi
spin (spain coating) dan dipcoating. Kedua tekhnik tersebut digunakan untuk
melapisi lapisan tipis film seperti foto resist di atas substrat. Pada spin
coating bahan polimer diencerkan dengan larutan. Cairan diteteskan satu persatu
ke substrat kemudian diputar sehingga terbentuk lapisan yang merata. Untuk
dipcoating substrat diencerkan kemudian dipanaskan supaya ke adisifitas
substrat meningkat. Cara ini mudah dan murah tetapi kemurnian dan
keseragamannya kurang.
Deposisi
Vacum Termal (TVD)
Lapisan tipis dibentuk dengan
mendeposisikan bahan yang diuapkan dalam ruang vacuum (kurang dari 10-5
Torr) di substrat.pemilihan metode pemanasan tergantung dari titik leleh bahan.
secara umum pemanasan hamburan digunakan untuk emanasan material temperature
rendah. Untuk material yang titik lelehnya tinggi digunakan pemanasan electron.
Serta untuk hasil material yang keadesiannya tinggiuntuk hasil ketebalan yang
ubiform. Maka jarak sumber penguapan dan substrat harus diatur agar waktu
eksposure deposisi juga terpengaruh. Laju deposisi dari metal secara umum cepat
sekitar 0,5 sampai 5 um/min dalam kasus metal electrode deposisi.
Sumber : Buku Optika Terpadu Karangan Agus
Rubiyanto dan Ali Yunus Rohedi
Subscribe to:
Posting Komentar (Atom)
0 komentar:
Posting Komentar